반도체 - EUV, ASML 관련주 - 업트렌드의 주식테마

설명

EUV Extreme Ultraviolet 극자외선노광장비

반도체를 만드는 데 있어 중요한 과정인 포토공정에서 극자외선 파장의 광원을 사용하는 리소그래피(extreme ultraviolet lithography) 기술 또는 이를 활용한 제조공정

네덜란드 ASML 이 사실상 EUV장비 시장을 독점하고 있음 (이른바 반도체 슈퍼을 기업)

뉴스

이재용 부회장, 한정판 ‘EUV 장비’ 협상 위해 네덜란드행 22년 6월 2일

“삼성도 줄 서” 반도체 수퍼사이클 열쇠 쥔 ‘수퍼을’ 21년 1월 25일

대장주

에스앤에스텍, 에프에스티, 동진쎄미켐, 디앤에프

에스앤에스텍★

에스앤에스텍, '투과율 90%' EUV 펠리클 개발 성공 21년 10월 6일

블랭크마스크 생산업체 에스앤에스텍이 투과율 90%의 반도체 극자외선(EUV) 공정용 펠리클 개발에 성공했다. 국내 최초다. 현재 투과율 90%의 EUV 펠리클은 네덜란드 ASML 한 곳만 개발에 성공

반도체 및 TFT LCD 생산에 쓰이는, 노광 공정의 핵심 재료인 포토마스크의 원재료로서 패턴이 노광되기 전 마스크인 블랭크 마스크 제조

에프에스티

에프에스티, 업계 최초 EUV 펠리클 자동 마운트 장비 개발 21년 7월 8일

반도체 설비 및 소재 전문업체 에프에스티(FST)가 극자외선(EUV)용 펠리클(Pellicle)을 마스크에 자동 탈부착하는 장비 등을 세계 최초로 개발하고 국내 대형 고객사 평가까지 마쳤다.

동진쎄미켐

동진쎄미켐, 극자외선(EUV) 포토레지스트 국산화 성공 21년 12월 21일

디엔에프

에프에스티, 2023년 EUV 펠리클 상용화 목표 22년 2월 11일

파크시스템스

파크시스템스, EUV 마스크 검사장비 국내 첫 개발 21년 12월 27일

원자현미경(AFM) 기반 나노계측전문업체 파크시스템스가 EUV용 마스크 검사장비를 개발

케이씨텍

韓 EUV 전환, 日 수출규제 '암초'…TSMC, 빈틈 노린다 19년 8월 1일

웨이퍼를 평평하게 다듬는 화학기계연마(CMP) 장비는 88%, 감광액의 부착력을 높이는 베이커 장비는 99% 일본에 의존한다. 국내 케이씨텍 등이 생산하고 있지만 기술력 차이가 있다.

켐트로스

[특징주] 켐트로스, 삼성 포토레지스트 개발 협력사 부각에 20%대↑ 20년 8월 3일

엘오티베큠

엘오티베큠, 반도체 EUV 공정에 필요한 진공펌프 국산화 도전 20년 11월 9일

참고자료

반도체 - EUV, ASML 관련주